光刻机，被誉为现代工业皇冠上的明珠，是制造芯片的必要核心设备。目前世界上仅有4家企业可以制造光刻机，而高端EUV光刻机市场被荷兰ASML公司垄断。

　　关注半导体行业的朋友都知道，要想制造7nm及以下工艺的芯片，就必须使用EUV光刻机，而国内企业虽然也有制造光刻机的企业，但却只能制造出中低端的DUV光刻机，暂不能为高端“中国芯”的发展做出贡献。

　　但随着美国打压力度的升级，华为等我国高新技术企业因发展的国内无法独自制造出高端芯片而受阻，多年的心血被毁于一旦，所以，研制出EUV光刻机势在必行，所幸的是，国内企业不辱使命，不断攻克光刻机技术壁垒，缩短与高端光刻机的差距。

　　国产28nm光刻机即将下线

　　近日，据媒体报道，国内半导体巨头上海微电子研制的28nm光刻机即将下线，实现了从90nm到28nm的巨大突破！

　　据业内知情人士透露，芯片代工企业通过多次曝光工艺，可以利用上海微电子制造的28nmDUV光刻机制造10nm芯片。

　　上海微电子的突破，对“中国芯”的发展有着巨大的历史意义，这意味着我国可以独自制造出10nm及以上制程工艺的芯片，进一步降低对美芯的依赖。

　　对此，不少国内网友表示，不出三年，我们就能研制出国产EUV光刻机，彻底摆脱对美芯的依赖。但在网友激情万丈的时候，中国院士泼来了一盆凉水。

　　一个国家不可能制造出EUV光刻机

　　近日，中国院士吴汉明表示，EUV光刻机集结了全球最顶尖的科学技术，所使用的零器件超过100000万件，来自全球1000多家企业，而且每件都代表着业内技术的最高水准，如美国的光源、德国的物镜、瑞典的轴承等。凭借一个国家实力，很难全部制造出如此多的高尖端零部件。

　　吴汉明院士此话一出，瞬间引起了国内网友的激烈讨论，纷纷表示：高端“中国芯”的发展真的没有希望了吗？真的要受制于人了吗？

　　其实，吴汉明院士并不是说我们不能制造出EUV光刻机，主要强调的是供应链的重要性！只要我们能够攻克被美国掌握的光刻机技术，再对全球供应链进行整合，我们就能制造出EUV光刻机。

　　除此之外，吴汉明院士的讲话还有一个用意，那就是我们应该要对光刻机的制造进行分割，各个企业专攻自己所承包的那段技术，快速制造出相应的零部件。

　　写在最后

　　我国进入现代工业的时间较晚，技术积累与西方发达国家存在着一定的差距，只要我们肯下苦功夫，必定能缩小差距，实现反超也不是不可能的事。但我们要想实现这一伟大目标，有一个问题亟待解决！

　　任正非曾表示，今后的商业竞争，就是核心技术的竞争，归根结底还是人才的竞争。

　　据第三方机构公布的数据显示，2021年，我国半导体行业需要近80万专业人员，然而，我国目前仅拥有60万专业从事半导体行业的人员，缺口高达20万。从这组数据中不难看出，培养专业的半导体人才才是当务之急。

　　笔者相信，随着国家不断加大对半导体行业的重视，高校、企业不断加大在半导体行业的教育、研发投入，我们必定能打破芯片封锁。你觉得呢？