光刻机做为芯片生产制造的关键设备，是在我国芯片产业链迈向国内生产制造的的重要一环。因为西班牙光刻大佬ASML受制于老美丽的出口管制标准，造成 大家花高价位也买不到，解决困难的唯一方式便是自身生产制造。

　　造出不来高档光刻机？

　　有关光刻机的产品研发，虽然有中国科学院等顶级科研院所的进入，殊不知，国外对于此事却仍然持冷言冷语的心态。

　　ASML在上年10月份就公布表态发言：就算给我国工程图纸，她们也造不出来。

　　台积电张忠谋也曾表明：全世界沒有一切一个国家或是公司可以创建详细的半导体材料全产业链，且还能维持竞争能力，内地自研光刻机有自视甚高的，应当潜心芯片设计方案，代工生产交到台积电就行。

　　毫无疑问光刻、芯片的破冰之旅有一定的难度系数，但从销售市场的视角看来，ASML和台积电是确实不愿见到国内半导体产业的兴起，终究他们是分别行业的“大哥”，一旦在我国完成了技术性独立，那麼必定会冲击性到他们的市场占有率。

　　殊不知，老美依次四次升級打击产生的“受制于人”之痛，使我们在光刻产品研发和芯片独立的难题上已沒有“知难而退”的空间。

　　中国科学院公布好消息

　　振奋人心的是，逆流而行的国内光刻行业持续传来着破冰之旅的好消息。

　　在基本光刻设备层面，上海微电子早就有着单独生产制造90nm光刻设备的整体实力，而在更进一步的28nm光刻机层面，于去年末也顺利完成提升，历经这段时间的沉积，预估这款新式国内光刻机将在年末宣布退出。

　　在优秀光刻设备层面，清华与美国联邦技术学校协作，不但明确提出并认证了一种新式粒子加速器“恒定微聚束”的试验演试，并且还认证了SSMB的工作中原理。“恒定微聚束”能够遮盖到光刻机所需的EUV股票波段，大概率能够适用最优秀的EUV光刻机设备。

　　而近日，中国科学院公布好消息，集团旗下的上海市电子光学机械设备研究室破冰之旅了能够适用EUV光刻设备的OPC技术性。

　　传统式芯片往往将要做到物理学極限，是由于光伏材料、芯片生产技术及其设备硬件配置早已沒有是多少提高的空间。而本次“光交所”的OPC技术性或将完成颠覆性创新的持续。

　　据了解，OPC技术性能够在硬件配置不会改变的标准下提升光刻设备的照明灯具度，进而提高光刻机的屏幕分辨率，让生产制造出去的芯片有高些的加工工艺精密度。

　　打过谁的脸？

　　如今来看，国内光刻设备破冰之旅的难题不取决于技术性，而取决于那超出十万个的高精密零件，但是针对在我国这一世界最大的生产制造销售市场而言，这十万个零件又能有多么难，真真正正“受制于人”的也许十分之一都不上。

　　北京大学林毅夫专家教授表明：三年以内，大家就能提升EUV光刻设备。TCL创办人李东升也是表态发言：在我国提升高档芯片只必须 五年時间。

　　伴随着国内高档光刻设备产品研发的持续推动，林毅夫和李东升的预测分析或将都一一灵验。

　　对于企图根据芯片断供来抵制在我国新科技发展趋势的老美、冷言冷语的ASML及其劝诫大家潜心芯片设计方案的台积电，最后遭遇的只有被“抽脸”。